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POLOS系列湿法刻蚀显影机.png


WET  PROCESS


湿法刻蚀又称为湿化学刻蚀法。它主要是借助刻蚀剂与

待刻材料之间的化学反应将待刻膜层溶解,以达到刻蚀

的目的。湿法刻蚀一般被用于工艺流程前面的晶圆片准

备、清洗等不涉及图形的环节。



NXQ8000系列光刻机.png


LITHOGRAPHY


光刻是通过一系列生产步骤,将晶圆表面薄膜的特定部

分除去的工艺。光刻生产的目标是根据电路设计的要求,

生成尺寸精确的特征图形,并且在晶圆表面的位置正确

且与其它部件的关联正确。




DeepRIE深反应离子刻蚀系统.png


PLASMA  PROCESS


等离子体由离子、电子以及未电离的中性粒子的集合

组成,整体呈中性的物质状态。现今等离子体工艺应

用广泛,一般适用于表面清洗,活化,表面改性,表

面刻蚀和聚合处理等等。



我们的优势

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OUR ADVANTAGE

优质的服务

我们尽力做到最好,只要您需要,我们就在您身边,为您提供优质的服务。

强大的全球供应链

迈可诺整合了欧美日韩等多个国家及地区的先进实验室资源,为您提供您所需的仪器设备。

专业的技术团队

我们具备专业的技术团队,随时为您提供技术支持,解决您的实际问题。


关于我们

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迈可诺技术(Mycro Technologies)是一家面向中国科研院所和企业研发中心的研究人员,提供实验室设备

 耗材和技术支持的专业提供商,迈可诺整合了欧美日韩等地区的先进实验室资源,

 目前我们的客户已经遍布内地和香港的大部分科研院所和

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