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MC方案｜白光反射光谱法如何测量薄膜叠层厚度？ 二维码
基础型 FR-pRo系列膜厚仪
01 测样目标 精确测量4层叠层中每一层的薄膜厚度。  02 测样方法 本篇应用介绍了通过白光反射光谱法（WLRS）在电介质和半导体薄膜叠层的情况下测量薄膜厚度。所有的测量都是在400-1000nm光谱范围内进行的，使用的仪器是FR-pRo系列膜厚仪。反射探头的有效光斑直径为1毫米。样品为Si3N4/SiO2、poly-Si/Si3N4/SiO2、PMMA/poly-Si/Si3N4/SiO2组成的硅晶圆。在所有测量中，使用Edmund光学外表面镀膜高反射镜（NT01-913-533）进行参考测量。 03 测样结果 在图1中，显示了硅晶片上Si3N4/SiO2叠层的反射光谱。计算厚度：SiO2为576.63nm，Si3N4为127.78nm。在图2中，显示了硅晶片上poly-Si/Si3N4/SiO2叠层的反射光谱。计算厚度：SiO2为578.45nm，Si3N4为144.77nm，多晶硅层为114.82nm。在图3中，显示了硅晶片上PMMA/poly-Si/Si3N4/SiO2叠层（4层）的反射光谱。计算厚度：SiO2为575.22nm，Si3N4为147.57nm，多晶硅层为115.73nm，PMMA为132.38nm。在不知道膜厚度的情况下，同时计算每个膜的单独厚度，计算的薄膜厚度与光谱椭圆偏振法所得到的值非常一致（<1%的差异）。
图1 图2
图3 04 测样结论 可同时测至少4层薄膜厚度 目前我司测试中心有一台膜厚仪样机，型号FR-pRo VIS/NIR(370-1020nm)，可为您提供免费测样服务。名额有限，快来申请哦 如需测样请点击下方图片，填写提交 膜厚仪测样服务申请表。
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