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 NXQ4000系列光刻机
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。光刻即在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
系列型号（根据曝光基片的尺寸范围选择合适的型号） NXQ4006 半自动型（可处理大到6英寸的基片） NXQ4008 半自动型（可处理大到8英寸的基片） 参数配置
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