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快速退火炉
详情介绍 快速退火炉(Rapid Thermal Process)是一个简单稳定的热处理系统，适合于广泛尺寸为直径2~12英寸的基片材料和结构的快速热低温退火(RTA)，（如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等）。快速退火炉配有一个管状石英反应室或不锈钢腔体，因此可兼容处理长度为300毫米的3 D样片。 应用领域： - 离子注入/接触退火； - 快速热处理(RTP)，快速退火(RTA)，快速热氧化(RTO)，快速热氮化(RTN)； - 可在真空、惰性气氛、氧气、氢气、混合气等不同环境下使用； - SiAu, SiAl, SiMo合金化； - 低介电材料； - 晶体化，致密化； - 太阳能电池片键合；
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