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MC开学季|这有一份开学清单,请查收!

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开学啦,

你是不是还沉浸在悠闲的暑假里?

新学期,新开始,

你的课题研究进展如何?

所谓“工欲善其事,必先利其器”,

在开始一项新的研究时,

首先要选好所需的仪器设备,

赶紧来看,

更多好物尽在MYCRO实验商城,

让我们为你的科研成果助力吧!



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匀胶旋涂仪

Spin Processor

目前,全世界各大高校和研究院实验室有超过12000套系统正在安全运行,销售量全球遥遥领先。外观精美,操作简单,拥有高精度马达控制系统,转速稳定,PLC智能程序控制加速度和匀胶时间,有美国NIST国际认证。



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显影刻蚀清洗系统

Wet Etcher Developer

独家专利的VoD顶盖阀门控制技术,确保在基片中心位置垂直向下喷射,确保样片表面的试剂受力均匀性。喷嘴可随压力大小调节喷射角度大小,可根据样片的尺寸大小来调节喷射扇形面积,避免扇形过大,浪费试剂。可做到样片的“干进干出”,避免样品在显影完后二次污染。



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光刻机

Mask Aligner

恩科优(NXQ)4000系列半自动掩膜对准曝光系统,融合了独立的模块化设计,精准控制对准和曝光等特点。自动程序控制使得该系统易于操作存储和使用,适合实验室多用户使用。该系统以其卓越的性能,经济的价格,深受全球用户喜爱,截止2011年底,超过4000台NXQ光刻机遍布全世界的科研实验室、研发中心和工业生产线。



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等离子清洗机

Plasma Cleaner

HPC系列小型等离子清洗机是台式等离子处理设备领域当之无愧的领先者。我们专为实验室,研发和小规模生产部门提供性价比高的小型等离子清洗设备,已经有30多年的丰富经验。




JETLIGHT系列退火炉-透明.png

高温退火炉

Rapid Thermal Process

欧洲原装进口RTP系列快速退火炉常被应用在各类半导体处理工艺领域,尤其是针对4~8英寸以内的单晶圆处理,JetFirst可以在客户现场轻松升级,100mm轻松升级到可以处理200毫米晶圆的能力,具有交叉灯技术,可在晶圆上实现更好的温度均匀性。



NDK热板-透明.png

烤胶机/加热板

Hot Plates

采用高性能PID控制,可高精度地进行温度控制。 主体正面操作部分与顶板之间装有安全灯(顶板温度在55℃以下时亮灯)。 顶板采用铝合金,其表面喷涂陶瓷涂层,具有非常好的耐腐蚀性。



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膜厚仪

Film Thickness Gauges

FR 基础型膜厚仪是一款模块化,具有可扩展功能的系列膜厚测量工具。专门为客户各类需求量身定做。针对广泛范围的不同应用,如标准吸光度/透射率、反射测量、以及在不同温度和环境下(甚至是液体中)的薄膜表征的测定。



探针台.png

低温探针台

Cryogen Probe Stations

经济高效,稳定,可靠,方便的改善在极低的真空和温度下对器件和电路的探测。内置振动隔离,智能热管理,使用低排放的材料,先进的密封性,使该系统非常适合一系列需要更好的真空水平的应用,如石墨烯的研究,分子电子学等的,系统采用闭式循环制冷机和专有的热管理,可以经济快速的操作。



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原子层沉积系统

ALD System

用于研发,小型台式,带切边功能

许多研发人员期待通过原子层沉积(ALD)来制备薄膜,由于ALD沉积系统价格昂贵,而望而却步。因此,本系统致力于以低廉合理的成本在小型尺度(通常为4英寸以内)上沉积出优秀的薄膜。



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压实密度仪

Presses Pellet

NO. 3887   自动制丸压片机(压实密度仪)

这款独立自动的25吨位制丸压片机带有5英寸的压力圆盘和完整的防护罩封闭的电动液压系统。坚硬的侧面厚板保证精密性以及包括提供一个真空线连接的制丸模具。带有可编程数字显示/选择取消的微处理系统。



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