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MC服务|中科院宁波材料所ALD原子层沉积系统顺利验收! 二维码
中科院宁波材料所购买了一台ALD原子层沉积系统和一台匀胶机,上周我们售后技术工程师去到现场完成设备安装调试以及用户培训,顺利验收! ![]() ![]() NO.1 ALD原子层沉积系统 AT410 用于研发,小型台式系统,兼容各类洁净室要求; 可处理最大直径为4英寸的样品; 腔室温度为40⁰C~315⁰C,温度均匀性±1⁰C; 一次同时可处理多达5个ALD前体源; 快速循环能力; 高纵横比沉积,具有良好的共形性; NO.2 匀胶机 WS-650Mz-23NPPB 高性能马达驱动,稳定的转速和快速的启动,保证胶厚度的一致性和均匀性,转速在12000转/分范围内,经美国国家标准技术研究院(NIST)认证; 采用PLC控制,速度无极调节,在启动之后一般工艺先以低速运转使胶摊开,然后自动变到高速运转,步骤转速及相应的时间分别可调; ![]() 设备安装调试中... ![]() ![]() 现场测试验收 我们使用ALD原子层沉积系统 AT410,在150℃温度下,在4英寸的硅片上成功沉积了一层25纳米厚的氧化铝薄膜。然后在薄膜上任意选取多个点,来测试沉积薄膜的均匀性。 测试结论: 氧化铝薄膜生长在 4英寸 原始硅片上,其表面具有 1.7nm (17A) 二氧化硅原生氧化物。在 150°C 下,此动态过程的生长速率为 0.99 A/周期,均匀度 <1.0 %。薄膜是使用 Woollam光谱椭偏仪,以固定角度从 381-893nm(187 点)的波长来测量。 产品询问表
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