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MC服务｜中科院宁波材料所ALD原子层沉积系统顺利验收！ 二维码
中科院宁波材料所购买了一台ALD原子层沉积系统和一台匀胶机，上周我们售后技术工程师去到现场完成设备安装调试以及用户培训，顺利验收！   NO.1 ALD原子层沉积系统 AT410 用于研发，小型台式系统，兼容各类洁净室要求； 可处理最大直径为4英寸的样品； 腔室温度为40⁰C~315⁰C，温度均匀性±1⁰C； 一次同时可处理多达5个ALD前体源； 快速循环能力； 高纵横比沉积，具有良好的共形性； NO.2 匀胶机 WS-650Mz-23NPPB 高性能马达驱动，稳定的转速和快速的启动，保证胶厚度的一致性和均匀性，转速在12000转/分范围内，经美国国家标准技术研究院（NIST）认证； 采用PLC控制，速度无极调节，在启动之后一般工艺先以低速运转使胶摊开，然后自动变到高速运转，步骤转速及相应的时间分别可调；  设备安装调试中...   现场测试验收 我们使用ALD原子层沉积系统 AT410，在150℃温度下，在4英寸的硅片上成功沉积了一层25纳米厚的氧化铝薄膜。然后在薄膜上任意选取多个点，来测试沉积薄膜的均匀性。
测试结论： 氧化铝薄膜生长在 4英寸 原始硅片上，其表面具有 1.7nm (17A) 二氧化硅原生氧化物。在 150°C 下，此动态过程的生长速率为 0.99 A/周期，均匀度 <1.0 %。薄膜是使用 Woollam光谱椭偏仪，以固定角度从 381-893nm（187 点）的波长来测量。 产品询问表
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