MC热点｜光刻胶新方向！西湖大学另辟蹊径“冰刻2.0”，突破三维微纳加工技术

在现在华为芯片遭到美国的制裁之后，越来越多的目光聚焦到芯片产业技术的研发。光刻技术作为芯片生产制造的重要技术，在过去几年内，中国在这方面的技术都是依赖美国、日本等国家的企业公司，芯片研发这方面就是被别人一直卡着脖子。

近年来，我国在光刻技术方面投资了巨大的精力和资产，但是光刻技术岂是短时间内就能取得巨大成果的。众所周知，芯片制造的光刻技术最主要的核心技术有两个方面，一个是光刻机精度的钻研，另一个就是被太被人们关注的光刻胶技术。要想光刻技术做出突破，就必须两个核心技术同时进步。终于就在近期，西湖大学传出了一条令人振奋的信息。

相信人们都见过精美的冰雕展品，各式各样的动物、宫殿被冰雕大师雕刻的惟妙惟肖，现在如果告诉你，这样的冰雕艺术发生在微米级别，并且同时进行几百件的雕刻，会是什么样的场景。

就在两个月之前，西湖大学由仇旻带领的的研究团队在国际上知名的科学技术期刊上发表了一系列的“冰雕”技术研究成果。在期刊上团队介绍了这项技术对于小到微米甚至纳米的雕刻游刃有余，从定位到控制都极其精准，再到用制成的冰雕作为模板进行加工，一套独特的“wafer in, device out”的“冰刻”三维微纳加工系统初步展现。

那么究竟什么是“冰刻”技术，怎样进行运用的呢？其实这样的道理在生活中随处可见，就好像我们要在蛋糕上写出生日快乐四个字，就需要先有一个模具，再把另外的材料透过模具撒上去，这样生日快乐四个字就出来了，同样的道理，传统的光刻技术也是这个做法，对比传统光刻技术，冰刻技术就是用冰来代替传统的光刻胶，将“冰”先放到晶体表面，用光子束做刀进行切割，做成目标的样式，这样一个模具就做好了，接着就是将金属填到镂空的地方，再将“冰”去掉，只留下金属，这样最终成型。

对比传统的运用光刻胶的光刻技术，对于最后一步将光刻胶去掉需要极其复杂的技术以及化学试剂才能完全去掉，而用冰来代替光刻胶，只需要将冰蒸发成水蒸气，就能够完美的消除，仿佛不曾存在。

早在2012年，仇旻就开始了冰上的起舞，当时“冰刻”领域一片茫然，只能依靠自己带领的团队一步一步的去研究，尽管冰刻技术的原理看似很简单，但是仪器的研发和调试却是十分的艰辛，都需要自己自学。终于在钻研了这么多年，这项技术足以被人们所铭记，它开辟了一条新的道路，为科学交叉学科的发展做出了巨大的贡献。