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MC方案|氧等离子体去胶应用案例 二维码
等离子去胶办法,去胶气体为氧气。其工作原理是将硅片置于真空反应系统中,通入少量氧气,加到1500V高压,由高频信号发生器产生高频信号,使石英管内形成强的电磁场,使氧气电离,形成氧离子、活化的氧原子、氧分子和电子等混合物的等离子体的辉光柱。活化氧(活泼的原子态氧)可迅速地将聚酰亚胺膜氧化成为可挥发性气体,被机械泵抽走,这样就把硅片上的聚酰亚胺膜去除了。等离子去胶的优点是去胶操作简单、去胶效率高、表面干净光洁、无划痕、成本低、环保。
>可参考下述去胶应用案例: Tergeo等离子系统可以测量等离子发射光强度。等离子体发射光随不同的气体种类而变化很大。在氧等离子体光致抗蚀剂灰化过程中,会产生CO,CO2,H2O型副产物,这会大大改变等离子体的发射强度。因此,可以通过监视等离子体发射强度来监视灰化过程的进度。 等离子体发射强度读数 使用设备:Tergeo-plus; 射频功率:150W; 基片尺寸:4英寸晶圆; 光刻胶类型:Shipley 1813正型抗蚀剂,已固化; 氧等离子体光刻胶的灰化速度: 去除6英寸以内大小基底材料表面的光刻胶(如S1805,SPR-200,SU8胶,AZ胶等),基底材料如蓝宝石、石英片和硅片等,高性价比的设备有哪些?
等离子强度 等离子体强度传感器——可定量测量等离子体强度。若没有等离子体传感器,就只能盲目调节气体流量,操作压力和射频功率。定量数据是实现一致和可重复结果的关键。 高纯度石英腔 使用高纯度石英室和石英样品架,而不是低成本的派热克斯玻璃或铝,石英室和样品架可以减少金属室和电极上的金属溅射污染问题,它还可以减少派热克斯玻璃上发生的钙,钠和钾污染。 双等离子源 浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻;远程式等离子源,可用于二维材料清洗,用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化。 ![]() ① 浸入式清洗模式 ![]() ② 远程式清洗模式 如果不希望在去胶的时候也对下面硅片或者玻璃片有任何粒子溅射,可以加上远程等离子模式,因为远程模式仅仅只是中性氧原子氧化,没有离子溅射。
综合来看,如果是20万左右的预算,想买一台高性价比的等离子去胶机,那么这款Tergeo和Tergeo Puls值得一看。 产品询问表
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