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MC应用|如何改善旋转涂层、优化实验过程? 二维码
▶ 如何改善我们的旋转涂层? 有三个简单的建议可以帮助您改善旋涂技术和最终涂层质量。 01 尝试动态分配 通过将化学物质动态分配到旋转的基材上,可提高涂层的质量和可重复性。我们每台匀胶机均随附有示例动态分配程序,供您进行试验。 02 使用注射器适配器 使用注射器适配器提高手动分配的准确性。该适配器专为我们所有匀胶机设计,可将针头保持在基材中心上方一致的高度。 03 准确地将基材放在托盘上 偏心的基材会引起振动和应力,影响您的涂层质量,最坏的情况甚至会导致基材破碎和匀胶机损坏。我们有用于SEMI标准晶圆的对准器以及用于方形和矩形基材的嵌入式托盘解决方案。 我们提供终生技术支持。我们的支持团队具有多年的旋涂经验,可以为常见的旋涂问题提供诊断和治疗。以下是我们的建议: 受污染的基材可能不会完全破坏您的涂层,但为什么您要花时间和精力进行从开始就存在缺陷的旋涂工艺呢?完整的清洁过程应解决所有形式的污染。 清洁后, 在旋涂过程中可能还会发生颗粒污染。我们的匀胶机旨在最大程度地减少颗粒的产生。 简单的观察并不能总是发现残留在晶圆上的化学污染会影响您的旋涂工艺,但结果显而易见。下图显示了由看不见的污染点产生的涂层中的空隙。 排气是旋涂处理操作中经常被忽略的部分。对于简单的旋涂程序,排气可将腔室内的化学蒸汽带走。我们的匀胶机有多种选配件,可满足更苛刻的要求。 在EDC系统中进行水处理时,正确的排气量更为重要。所有可能的输入,化学试剂,用于冲洗的去离子水,用于清除湿润路径和干燥基材的气体必须与足够的废气保持平衡。这样可以防止在处理室中产生超压环境,并迅速清除多余的水分。 如果希望获得最佳的旋涂效果,应保持匀胶机的洁净。请参阅上面一些执行操作的示例。您的过程应进行优化,以使用最少的化学物质,匀胶机应在每次操作结束时进行清洁。 产品询问表
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