MC服务｜太原第一实验室的2套湿法刻蚀显影机顺利验收！

用户工艺方案

设备型号：2套 EDC-650Hz-8NPPB湿法显影刻蚀系统；
基底材料：直径100mm和200mm硅片；
化学试剂：
1）刻蚀应用试剂：
APd(钯/Palladium)：浓硫酸/HNO3；
Au(金/Gold)：碘化钾/Potassium Iodide/KI；
AI(铝/Aluminum)：磷酸&硝酸/H3PO4:HNO3；
Ti(钛/Titanium)：氢氟酸/HF；
2）清洗应用试剂：
双氧水/H2O2&氨水/NH3·H2O；
浓硫酸/H2SO4&双氧水/H2O2；