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湿法处理：涂胶技术应用 二维码
涂胶技术 衬底可采用不同方法涂抹光致抗蚀剂或其他材料。 为此需要将衬底，通常为硅晶圆，压固在转盘上。 随后，在衬底表面涂抹溶液。 晶圆结构是选择涂胶方式的决定性因素。 目前最常用的方法是旋涂法。 它用于没有或者只有极小表面结构的晶圆。 对于表面有复杂结构的晶圆，喷涂是首选方法。 旋涂法 在旋涂法中旋转衬底被均匀地涂以溶液。 溶液，如光致抗蚀剂，通常分注在晶圆中心。 .然后加速度、最终转速和各步骤的持续时间使得涂料的一部分经离心分离形成厚度均匀的膜。 除了工艺参数外，溶液或光致抗蚀剂的物理性质决定了膜的厚度。 GYRSET的原理是，工作室在涂胶过程中同步旋转，从而有效降低了旋转衬底上方的空气湍流。 在封闭的腔室中空气比通常用溶剂时更快速地饱和，使涂层缓慢干燥，从而更均匀地分布在衬底上。 这大大减少了材料的用量。 旋涂法不适用于有凹凸图形的结构。 我们的客户可以从中得到以下好处
喷涂法 在喷涂法中，喷嘴将要涂抹的溶液喷在晶圆上。 经过优化后的晶圆上方喷嘴移动路径可以实现在衬底上均匀的涂层。 喷涂所用的液体通常粘度极低，以确保形成细小的液滴。 喷涂法即使在凹凸图形上也能形成均匀涂层，因此它是这种结构的首选方法。 喷涂法还能喷涂方形的衬底。 我们的客户可以从中得到以下好处
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