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Minilock-Orion III PECVD沉积系统
Minilock-Orion III PECVD沉积系统 Minilock-Orion III是一套等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),或者多尺寸批处理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。 Minilock-Orion III用于有毒/发火PECVD工艺。沉积薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物、无定形硅和碳化硅。工艺气体:100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧、氮、三甲基硅烷和甲烷。 该系统可选配一个三极管(Triode)或电感耦合等离子(ICP)源。三极管源使得用户可以创建高密度等离子,从而控制薄膜应力。 基片通过预真空室装入工艺室,其避免了与工艺室以及任意残余沉积副产品接触,从而提高了对用户的保护。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下,从而保持反应室与大气隔绝。 产品询问表
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