请登录注册微信登录
手机版
查看手机网站
查看手机网站
收藏本站我的资料我的订单
购物车 (0)
亲，您的购物车空空的哟~
去购物车结算
亲，您的购物车空空的哟~
SLOGN

Supply Globally,Serve Locally

微信客服
在线客服
 仪器设备咨询
 试剂耗材咨询
 工作时间
周一至周五 ：8:00-17:30
 联系方式
客服热线：400-8800-298
售前E：sales@mycroinc.com
售后E：support@mycroinc.com
Sirus T2 - 台面式反应离子刻蚀机
Sirus T2 - 台面式反应离子刻蚀机
Sirus T2 - 台面式反应离子刻蚀机

Sirus T2反应离子刻蚀机(RIE)是一套台面式等离子刻蚀系统，可用于介质以及其他要求氟基化学的薄膜刻蚀。


其占地面积小及坚固耐用的设计特点使其非常适用于实验室环境。它可以用于为200mm的基片及200mm以下尺寸基片的刻蚀。


产品询问表
您想要了解的产品（可多选）
*
单位名称
*
联系人姓名
*
手机号码(*必填)
*
电子邮箱（*必填）
*
详细要求描述
提交
会员登录
获取验证码
登录
登录
其他账号登录：
我的资料
◆
我的收藏
◆
回到顶部
◆