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FR-Scanner扫描型膜厚仪
FR-Scanner扫描型膜厚仪
FR-Scanner扫描型膜厚仪
全自动,超快速,高精准等膜厚表征绘制和膜厚涂覆的光学特性

FR-Scanner 是简洁易操作的台式膜厚仪,适用于在大尺寸基板上的薄膜和涂层上,利用光学反射方法来测量和自动分析薄膜涂层的表征。


FR-Scanner膜厚仪是可通过测定放置在真空托盘上的任何大小的半导体晶圆片,快速计算出其厚度、折射率、均匀性、颜色等参数。


FR-Scanner膜厚仪的光学扫描系统,采用一套特有又可配套的光谱仪,集成白炽和LED混合的光源,以及其他光学部件。在本系统设计中没有弯曲或移动探针。因此,在准确度、重复性和长期性方面,光纤具有优异的性能。确保系统结果输出的稳定性。此外光源的特殊设计提供极长寿命,可达10000小时以上。


FR-Scanner通过旋转晶圆并以无与伦比的速度和精度在半径和角度上进行线性移动(极坐标)来扫描晶圆。这样,可以记录具有高重复性的准确反射率数据,从而使FR-Scanner成为在线或在线表征加工设备上的晶片或其他基板上的涂层的理想工具。

它提供了多种配置,可用于表征薄至几nm,厚至几百um的薄膜。FR-Scanner在准确性、精确度、可再现性和长期稳定性方面提供出色的性能。


应用领域

o 半导体制造(光致抗蚀剂,电介质,多晶硅,非晶硅,DLC,光子多层结构)

o 光伏产业

o 大学和研究实验室

o 液晶显示器

o 光学镀膜

o 聚合物

o MEMS和MOEMS

o 基材:透明(玻璃,石英等)和半透明


特点

o 直接分析

o 动态测量

o n&k的测量,包括颜色

o 保存视频进行演示

o 多个装置进行离线分析

o 免费软件更新


技术参数

系统参数

FR-Scanner-E

VIS/NIR

FR-Scanner-F

VIS/NIR

FR-Scanner-F   VIS

样片尺寸

晶圆片: 2in-3in-4in-6in-8in.   不规则样片等

R向分辨精度

10μm

5μm

5μm

角度分辨精度

0.2°

0.1°

0.1°

光斑大小

500μm (直径):   反射的区域

最小膜厚

100nm

光谱范围

350nm   - 1100nm

350nm   - 1100nm

550nm   – 900nm

光谱仪参数

3648   pixels

光源平均使用寿命

10000小时

膜厚范围

20nm-90μm

20nm-90μm

100nm-190μm

测量分辨率

<0.1nm

0.06nm

0.06nm

测量稳定范围

<0.1nm

0.06nm

0.06nm

测量精度

1nm   

1nm

1nm

扫描速率

200meas/min   

5points:   6sec

25points:   15sec

625meas/min   

5points:   4sec

25points:   9 sec

625meas/min   

5points:   4sec

25points:   9 sec

通讯接口

USB   2.0 / USB 3.0.   Any   PC   running   Windows   7/8/10   64bit.

尺寸

485W   x   457L   x   500H   mm

功率要求

110V/230V,   50-60Hz, 300Watts

重量

23kg

40kg

40kg

*附件选项

电脑:PC with 19inch screen

对焦模块:光学模块附带250um直径光斑大小的反射探针

泵浦:样品放置用的高级无油真空泵浦




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