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产品说明
PECVD沉积系统
Minilock-Orion III PECVD沉积系统
Orion III 等离子增强型化学汽相沉积 (PECVD)系统
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详情介绍

PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) -- 等离子体增强化学的气相沉积


PECVD:是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促使反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).

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