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Supply Globally,Serve Locally

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湿法工艺

WET  PROCESS


湿法刻蚀又称为湿化学刻蚀法。它主要是借助刻蚀剂与

待刻材料之间的化学反应将待刻膜层溶解,以达到刻蚀

的目的。湿法刻蚀一般被用于工艺流程前面的晶圆片准

备、清洗等不涉及图形的环节。



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光刻工艺

LITHOGRAPHY


光刻是通过一系列生产步骤,将晶圆表面薄膜的特定部

分除去的工艺。光刻生产的目标是根据电路设计的要求,

生成符合尺寸的特征图形,并且在晶圆表面的位置正确

且与其它部件的关联正确。




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等离子工艺

PLASMA  PROCESS


等离子体由离子、电子以及未电离的中性粒子的集合

组成,整体呈中性的物质状态。现今等离子体工艺应

用广泛,一般适用于表面清洗,活化,表面改性,表

面刻蚀和聚合处理等等。



匀胶旋涂仪
等离子清洗机
膜厚测试仪
压片机
EDC湿法刻蚀显影机
产品展示
PRODUCT GALLERY
我们的优势
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品质服务

只要您需要,我们就在您身边,竭诚为您提供品质服务。

全备的供应链

迈可诺整合了欧美日韩等多国的先进实验室资源,为您提供您所需要的仪器设备。

专业技术团队

我们具备专业的技术团队,随时为您提供技术支持,解决您的实际问题。


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